<th id="dbnx5"></th>
    1. <mark id="dbnx5"></mark>
      <mark id="dbnx5"><delect id="dbnx5"><legend id="dbnx5"></legend></delect></mark>
      1. <mark id="dbnx5"></mark>

        <mark id="dbnx5"></mark>

      2. <ins id="dbnx5"></ins>
      3.  
        亚美设备(香港)有限公司
        惠州市亚美电子设备有限公司

        135-2800-7662

        0752-3633589

        电镀设备-电镀设备生产线-亚美电镀设备厂


        新闻中心

        News Center


        化学药水的种类及常见问题解析!)
        来源:惠州市亚美电子设备有限公司 | 作者:hzyamei | 发布时间: 263天前 | 954 次浏览 | 分享到:
        世界上有许多不同类型的酸性化学镀铜药剂,过去几年来,为了满足实现电路微型化和高密度所需技术的持续发展,这种药剂的种类不断增加。驱动产业不断开发新的电镀化学品,以满足需要更高级电子产品连接和信号通道的更精细要求。接下来由亚美化学药水加工设备厂家来为大家分享! 总的来说,酸性化学镀铜药水可以分为以下9类:

               世界上有许多不同类型的酸性化学镀铜药剂,过去几年来,为了满足实现电路微型化和高密度所需技术的持续发展,这种药剂的种类不断增加。驱动产业不断开发新的电镀化学品,以满足需要更高级电子产品连接和信号通道的更精细要求。接下来由亚美化学药水加工设备厂家来为大家分享! 总的来说,酸性化学镀铜药水可以分为以下9类:

        一、世界上有多少不同种类的酸性化学镀铜药水?

        (1)传统直流电镀
         这种电镀通常采用传统技术,用于电镀比较简单的电路板的简单特征,如低厚度比的通孔、大线宽度和线距。
        (2)高分布力 DC电镀
        伴随着直流电镀技术的不断发展,高分布力 DC电镀可以满足12:1厚径比的要求。由于均镀力的限制,使铜镀层在要求较高的表面上只能达到最小的孔数,目前仍然适用于比较简单的电路板。HDI工艺产品对这种表面铜层状况的应用是有限的。 (3)周期性脉冲反向电镀 这种化学液体用于高厚径比的高科技产品金属化。结合特定的脉冲整流技术,这种系统可以均匀地镀厚度直径比大于25: 1的孔,同时最大限度地减少表面镀铜。
        (4)导通孔填充电镀
        这种DC化学用于完全填充高阶HDI微通孔,实现层间独立连接,形成更高密度的信号通道。微孔的填充极限通常是直径150m,深度125m。这种化学溶液体系可以设计成全镀模式填充微孔,同时保证表面最薄的镀铜层,具体取决于具体应用。大多数HDI板都是通过任何层工艺生产的。传统HDI是通过图案电镀制造的。任何一层都用双面芯材,然后在整个电镀板上加HDI层,没有任何通孔。过孔被堆叠以形成通孔。
        高阶HDI先采用芯材,再叠加镀有图案通孔的层,是否增加通孔可根据需要决定。 任何一层的过程都是层压顺序。首先使用双面芯材,然后层叠10或12层,不钻任何通孔。在任何一层工艺中,电镀都是以全板电镀的方式完成,印刷和蚀刻的方式与内层加工类似。接线会稍微呈梯形。最近,印刷电路板制造商将使用普通设备加工超薄金属箔,以形成仅30米/35米的线宽/间距(L/S)。一般用不溶性阳极和直流溶液来完成任何一层的电镀。

        (5)导通孔填充和贯穿孔电镀
        这种 DC化学品用于较高级别的制造技术,如用 mSAP填充微通孔,用图形电镀方式实现较低厚度的贯穿孔(<4:1)。这种溶液既能很好地填充通孔,又能使电镀通孔具有良好的孔面,同时保证形成受控阻抗的走线轮廓。常规 HDI采用多层芯材和电路板,其外层埋设有一层以上 HDI孔。导通孔可通过图形电镀或点电镀的方式填充,然后需要采用整平技术来整平表面。通常先用图形电镀微导通孔,再用图形电镀通孔。常规电镀槽可采用铜或难溶阳极。 如今,厚度与直径比为4∶1的微通孔和通孔可以通过用图案化镀铜填充通孔而在单个循环中同时电镀。大规模生产中包括mSAP和更薄电路板在内的高阶HDI设计只需要一个图形电镀周期来填充过孔,不需要调平。填充通孔后,最好使用直接冲击溶液流和铜或不溶性阳极来完成通孔电镀。
        (6)二合一RDL电镀
        这种IC载体制造化学品可用于制造再分布层,该再分布层从IC封装中扇出信号,并实现与PCB的最终连接。这种解决方案可以用来填充IC载板核心层上较小的微通孔(不超过65 m宽,35 m深)和激光X通孔。同时,通过图案电镀模式可以获得非常密集的迹线轮廓和迹线/焊盘共面性。。
        (7)嵌入式走线电镀
        这种化学物质用于在图案电镀模式中形成非常细的线宽和间距,这具有非常紧密的迹线形状公差和IC载板的共面性。这种系统可以电镀小到5米宽的痕迹。
        (8)铜柱电镀
        这些化学物质用于形成铜柱,而不是焊接法兰来连接集成电路封装。这种溶液可以在高电镀速度下形成高达200 m的铜柱,并且可以控制顶部轮廓和共面性。
        (9)通孔填充
        这种化学品的设计目的是完全填充核心体积层,通过脉冲整流进行通孔热管理。

        二、配方和化学品的名称是否会因采用的条件(如垂直或水平传送带式镀槽、垂直龙门架镀槽)不同而发生变化?若有,则如何命名?

        总体而言,配方将根据具体应用而非所用设备进行更改。比如,导孔填充和贯穿孔镀膜都需要不同种类的添加剂来达到各自的作用。为了防止表面铜层的堆积,导通孔填充要求添加剂吸附在线路板表面,而其他一些助剂则加速吸附在低电流密度的微通孔底部,以提高电镀速度,实现从底向上的填充。在常规 DC电镀中使用这些添加剂后,最终会形成极薄的沉积层,孔膝十分脆弱,均镀能力也较差。 在垂直提升机而非垂直连续电镀机上放置特定产品时,可能需要调整溶液操作条件以达到理想的效果。但是并非所有的配方都需要改变。但是,这种配方必然会引起产品名称的改变。

        三、你是否规定以上的配方只适用于特定的市场?例如军事,航空方面?

        与其将产品按终端市场进行细分,如军事领域,我们更多的是按应用和需求进行细分。在许多情况下,这些应用和需求适合特定的市场。在新兴市场如汽车业采用更多新技术后,将会有更多交叉应用出现。小型化是产品发展的主要动力。高阶封装的异构集成是驱动 L/S的主要因素,其中包括更小的间距和更多的新封装设计的接触点。

        四、电镀包括金属化吗?还是应该把镀铜的溶液称为电镀铜? 

        镀金是指电镀,而镀金是指不完全镀金。酸铜应被称为电解铜或电镀铜,不同于化学镀铜或 CVD沉积铜。

        五、行业内有多少金属化技术?您的产品组合是否涵盖了清单上所有类型的金属化技术?换句话说,你有全套的化学品吗? 以下是业内广泛认可的金属化技术:

          薄沉积层化学镀铜

          厚沉积层化学镀铜

          石墨直接金属化

          碳直接金属化

          导电聚合物金属化

          SAP金属化
        以上就是化学药水的种类及常见问题的解析,希望对你有一定的帮助!我们惠州市亚美电子设备有限公司是一家专业生产化学药水加工设备、碳处理设备生产厂家,欢迎你前来咨询了解!

        联系我们
        电话:+86-0752-3633589
        邮箱:ymshebei@126.com
        QQ:3239544110
        地址:广东省惠州市惠阳区新圩镇黄竹场鸿兴工业园
        色悠久久久久综合网香蕉,人妻有码中文字幕在线,成年女人喷潮毛片免费播放,国产日产欧洲无码视频 日本无吗无卡V免费清高清| 男人的天堂VA在线无码WWW| 亚洲最大AV无码网址| 亚洲成AV人片在| 日韩AV无码国产精品| 久本草在线中文字幕亚洲| 久久精品中文字幕| 亚洲最新无码中文字幕久久|